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電子氣體

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四氟化碳(CF4)
   
化學(xué)式 CF4
中文名稱 四氟化碳
英文名稱 Carbon  tetrafluoride
CAS No. 75-73-0
分子量 88.005
充裝量 13.5Mpa21.1度)
應(yīng)用 四氟化碳是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。對于硅和二氧化硅體系,采用CF4-H2反應(yīng)離子刻蝕時,通過調(diào)節(jié)兩種氣體的比例,可以獲得451的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。
產(chǎn)品規(guī)格 99.999%

百科:

四氟化碳,又稱為四氟甲烷、Freon-14及R 14,是一種鹵代烴(化學(xué)式:CF4)。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳,也可被視為一種無機(jī)化合物。
-198 °C時,四氟化碳具有單斜的結(jié)構(gòu),晶格常數(shù)為a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。

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