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混合氣體

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    艾佩科(上海)氣體有限公司
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激光混合氣體
氣體名稱 英文名稱 混合比例
激光混合氣 He , Ne , Kr , Xe , F2 , CO , N2 , O2, Ar , H2, HCl等混合氣體 定制
應(yīng)用 使用在半導(dǎo)體激光光源,準(zhǔn)分子激光等。
產(chǎn)品規(guī)格 ≥99.999%

百科:

品 牌
機 型
波 長
準(zhǔn)分子激光氣體
ATL
ATL ARF-1
193 nm
F2,Ar,Xe,Ne
ATL KRF-1
248 nm
F2,Kr,Xe,Ne
TUI
CTFTS-ARFV 2.2
193 nm
F2,Ar,He,Ne
CTFTS-KRFV 2.1
248 nm
F2,Kr,He,Ne
CTFTS-KRFV 2.2
248 nm
F2,Kr,He,Xe,Ne
CTMD-ARFV 2.0
193 nm
F2,Ar,He,O2,Ne
CTMD-XECLV 2.1
308 nm
HCl,H2,Xe,Ne
CTMN-ARFV 2.0
193 nm
F2,Ar,He,Ne
CTMN-ARFV 2.1
193 nm
F2,Ar,He,Ne
CTMN-KRFV 1.0
248 nm
F2,Kr,He,Ne
CTMN-KRFV 2.0
248 nm
F2,Kr,He,Ne
CTMN-XECLV 2.0
308 nm
HCl,H2,Xe,Ne
CTMN-XECLV 5.0
308 nm
HCl,H2,Xe,Ne
CTMN-XEFV 1.1
450nm~520nm
F2,Xe,He,Ne
CTMN-XEFV 1.2
450nm~520nm
F2,Xe,He,Ne
GAM Laser
EX5 ArF
193 nm
F2,Ar,He,O2,Ne
EX5 KrF
248 nm
F2,Kr,He,Ne
EX5 XeCl
308 nm
HCl,H2,Xe,Ne
EX10
193 nm
F2,Ar,He,Ne
EX50
193 nm
F2,Ar,He,Ne
EX100
193 nm
F2,Ar,He,Ne
Photomedex
XeCl
308 nm
HCl,Xe,Ne
Photoscribe
ArF
193 nm
F2,Ar,Ne
KrF
248 nm
F2,Kr,Ne
PotomacPhotonics
ArF
193 nm
F2,Ar,Ne
KrF
248 nm
F2,Kr,Ne
Spectranetics
XeCl
308 nm
HCl,H2,Xe,Ne
用于以氣體為工作物質(zhì)的激光器。

此處所說的氣體可以是純氣體,也可以是混合氣體;可以是原子氣體,也可以是分子氣體;還可以是離子氣體、金屬蒸氣等。多數(shù)采用高壓放電方式泵浦。最常見的有氦-氖激光器、氬離子激光器、二氧化碳激光器、氦-鎘激光器和銅蒸氣激光器等。

氦-氖激光器是最早出現(xiàn)也是最為常見的氣體激光器之一。它于1961年由在美國貝爾實驗室從事研究工作的伊朗籍學(xué)者佳萬(Javan)博士及其同事們發(fā)明,工作物質(zhì)為氦、氖兩種氣體按一定比例的混合物。根據(jù)工作條件的不同,可以輸出5種不同波長的激光,而最常用的則是波長為632.8納米的紅光。輸出功率在0.5~100毫瓦之間,具有非常好的光束質(zhì)量。氦-氖激光器是當(dāng)前應(yīng)用最為廣泛的激光器之一,可用于外科醫(yī)療、激光美容、建筑測量、準(zhǔn)直指示、照排印刷、激光陀螺等。不少中學(xué)的實驗室也在用它做演示實驗。

比氦-氖激光器晚3年由帕特爾(Patel)發(fā)明的二氧化碳激光器是一種能量轉(zhuǎn)換效率較高和輸出最強的氣體激光器。目前準(zhǔn)連續(xù)輸出已有400千瓦的報導(dǎo),微秒級脈沖的能量則達到10千焦,經(jīng)適當(dāng)聚焦,可以產(chǎn)生1013瓦/米2的功率密度。這些特性使二氧化碳激光器在眾多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。工業(yè)上用于多種材料的加工,包括打孔、切割、焊接、退火、熔合、改性、涂覆等;醫(yī)學(xué)上用于各種外科手術(shù);軍事上用于激光測距、激光雷達,乃至定向能武器。

與發(fā)明二氧化碳激光器同年,發(fā)明了幾種惰性氣體離子激光器,其中最常見的是氬離子激光器。它以離子態(tài)的氬為工作物質(zhì),大多數(shù)器件以連續(xù)方式工作,但也有少量脈沖運轉(zhuǎn)。氬離子激光器可以有35條以上譜線,其中25條是波長在408.9~686.1納米范圍的可見光,10條以上是 275~363.8納米范圍的紫外輻射,并以488.0納米和514.5納米的兩條譜線為最強,連續(xù)輸出功率可達100瓦。氬離子激光器的主要應(yīng)用領(lǐng)域包括眼疾治療、血細(xì)胞計數(shù)、平版印刷及作為染料激光器的泵浦源。

1968年發(fā)明的氦-鎘激光器以鎘金屬蒸氣為發(fā)光物質(zhì),主要有兩條連續(xù)譜線,即波長為325.0納米的紫外輻射和441.6納米的藍(lán)光,典型輸出功率分別為1~25毫瓦和1~100毫瓦。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括活字印刷、血細(xì)胞計數(shù)、集成電路芯片檢驗及激光誘導(dǎo)熒光實驗等。

另一種常見的金屬蒸氣激光器是1966年發(fā)明的銅蒸氣激光器。一般通過電子碰撞激勵,兩條主要的工作譜線是波長510.5納米的綠光和 578.2納米的黃光,典型脈沖寬度10~50納秒,重復(fù)頻率可達100千赫。當(dāng)前水平一個脈沖的能量為1毫焦左右。這就是說,平均功率可達100瓦,而峰值功率則高達100千瓦。

銅蒸氣激光器發(fā)明后過了15年才進入商品化階段,其主要應(yīng)用領(lǐng)域為染料激光器的泵浦源。此外,還可用于高速閃光照相、大屏幕投影電視及材料加工等。


氦氖激光器結(jié)構(gòu)

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